ASML
Седиште компаније у Велдховену | |
| Тип | Јавно предузеће |
|---|---|
| Симбол | NASDAQ: ASML |
| Индустрија | Производња полупроводничких уређаја |
| Кључни људи |
|
| Производ(и) | фотолитографски системи за полупроводничку индустрију |
| Приход | |
| Зарада | |
| Нето зарада | |
| Актива | |
| Акцијски капитал | |
| Запослених | 44,175 (2025)[1] |
| Вебсајт | asml |
ASML је холандска технолошка компанија која развија и производи фотолитографске системе за полупроводничку индустрију. Седиште компаније налази се у Велдховену у Холандији.[2] Компанија је најпознатија по развоју и производњи система за литографију екстремним ултраљубичастим зрачењем (Extreme Ultraviolet Lithography; EUV), који се користе у производњи најнапреднијих интегрисаних кола.[3]
Историја
[уреди | уреди извор]Компанија је основана 1984. године под називом ASM Lithography као заједничко предузеће холандских компанија Philips и ASM International, са циљем развоја европске индустрије опреме за полупроводнике у периоду доминације јапанских произвођача.[4]
Први производ био је литографски систем PAS 2000, развијен у близини Ајндховена.[5] У раним годинама компанија је пословала у условима значајних финансијских и технолошких изазова, али је постепеним развојем и подршком оснивача успела да се позиционира на тржишту опреме за полупроводнике.
Током касних осамдесетих и деведесетих година развијена је серија литографских система PAS 5500, која је постала широко прихваћена у индустрији интегрисаних кола и омогућила раст тржишног удела.[6]
Године 1995. ASML је изашао на берзе у Амстердаму и Њујорку, што је довело до значајног ширења производних капацитета и убрзање истраживања и развоја.[7] У наредном периоду компанија је повећала удео на глобалном тржишту и постепено учврстила позицију међу водећим произвођачима литографске опреме, уз конкуренцију компанија Nikon и Canon.[8]
Почетком 2000-их година започети су интензивни развојни програми у области екстремне ултраљубичасте литографије (EUV), уз сарадњу са међународним партнерима из области оптике, ласерске технологије и прецизне механике.[9]
Током 2001. године преузета је америчка компанија Silicon Valley Group, чиме је ојачано присуство на америчком тржишту и проширен портфолио технологија.[10] Накнадне аквизиције биле су усмерене на софтвер, метрологију и контролу производних процеса.
Године 2012. највећи произвођачи полупроводника, укључујући Intel, TSMC и Samsung Electronics, уложили су значајна средства у развој EUV технологије, чиме је убрзан њен прелазак ка комерцијалној примени.[11]
Након више од две деценије развоја, EUV системи су крајем 2010-их ушли у комерцијалну употребу и омогућили производњу најнапреднијих полупроводничких процеса у индустрији.[12]
До почетка 2020-их година ASML је постао један од најзначајнијих европских технолошких произвођача и међу највреднијим компанијама у Холандији, са доминантном позицијом у области EUV литографије.[13]
Пословање
[уреди | уреди извор]ASML развија и производи литографске системе који се користе за пренос сложених образаца на силицијумске плочице у производњи интегрисаних кола. Његови системи омогућавају израду све мањих и сложенијих транзистора, што је кључно за развој савремених микропроцесора и меморијских чипова.[14]
Поред литографских система, компанија развија софтвер, системе за метрологију и контролу процеса, као и услуге техничке подршке произвођачима полупроводника. Највећи део прихода остварује се на тржиштима Азије, Северне Америке и Европе.[15]
Технологија
[уреди | уреди извор]ASML развија сложене фотолитографске системе који обухватају оптичке системе, изворе зрачења, прецизну механику, софтвер за управљање и метрологију.[16] Циљ је омогућавање изузетно прецизног преноса геометрије кола на нанометарском нивоу.
Архитектура литографских система
[уреди | уреди извор]Литографски системи (скенери) заснивају се на пројекционој литографији, где се образац са фотомаске оптички умањује и преноси на силицијумску плочицу.[17]
Поступак се изводи у високо контролисаним условима, при чему су стабилност, температура и вибрације строго регулисани како би се обезбедила прецизност на нанометарском нивоу.
DUV литографија
[уреди | уреди извор]DUV литографија представља дугогодишњу основу масовне производње полупроводника. Користи таласну дужину од 193 нанометра и технике као што је immersion lithography, где се између сочива и плочице налази течност ради побољшања резолуције.[18]
Ови системи се и даље користе у производњи различитих класа чипова, укључујући меморије и мање напредне логичке компоненте, често у комбинацији са техникама вишеструке експозиције.
EUV литографија
[уреди | уреди извор]EUV литографија користи зрачење таласне дужине од 13,5 нанометара, чиме се постиже значајно већа резолуција у односу на DUV технологију.[19] Због апсорпције екстремног ултраљубичастог зрачења у материјалима, систем користи рефлективну оптику са вишеслојним огледалима уместо сочива. Извор зрачења заснива се на стварању плазме из капљица калаја, које се погађају снажним ласерским импулсима у вакууму.
EUV технологија се широко користи у савременим производним процесима у индустрији полупроводника.
High-NA EUV
[уреди | уреди извор]High-NA EUV представља следећу генерацију технологије, засновану на повећању нумеричке апертуре оптичког система ради постизања веће резолуције и даље минијатуризације транзистора.[20] Очекује се да ће имати важну улогу у будућим технолошким генерацијама испод 2 нанометра.
Метрологија и софтвер
[уреди | уреди извор]Поред хардверских система, ASML развија напредна решења за мерење и контролу процеса, која омогућавају исправљање грешака у реалном времену и одржавање високог приноса у производњи.[21]
Софтверски системи координишу рад оптике, механике и извора зрачења, уз примену алгоритама за компензацију оптичких и термалних одступања.
Интеграција у производни ланац
[уреди | уреди извор]ASML не производи чипове, већ опрему која се користи у њиховој производњи. Његови системи су део ширег екосистема у којем учествују компаније као што су TSMC, Samsung Electronics и Intel, као и бројни добављачи материјала, оптике и индустријских компоненти.[22]
Због високе сложености система, испорука и инсталација захтевају дуготрајан процес интеграције у фабрике полупроводника, познате као fabs. Ови системи се редовно надограђују како би пратили захтеве нових генерација производних процеса.
Награде
[уреди | уреди извор]ASML је добио различита индустријска признања и технолошка одликовања у областима полупроводничке опреме, прецизне механике и фотонике.[23] Признања се односе пре свега на развој литографских технологија, укључујући екстремну ултраљубичасту литографију (EUV), која је омогућила даљу минијатуризацију интегрисаних кола.[24]
Компанија је такође препозната по сарадњи са водећим произвођачима полупроводника, који су учествовали у развоју и финансирању EUV технологије, што је допринело њеној комерцијализацији.[25] У ширем контексту, ASML се сматра једним од кључних добављача опреме у глобалној полупроводничкој индустрији и једним од водећих европских технолошких произвођача.[26]
Види још
[уреди | уреди извор]Референце
[уреди | уреди извор]- ^ а б в г д ђ „ASML 2025 Annual Report (Form 20-F)”. US Securities and Exchange Commission. 25. 2. 2026. Архивирано из оригинала 14. 3. 2026. г..
- ^ „About ASML - The world's supplier for the semiconductor industry”. ASML (на језику: енглески). Приступљено 2026-06-14.
- ^ „Innovator in Semiconductor EUV Lithography Systems”. Investopedia (на језику: енглески). Приступљено 2026-06-14.
- ^ „ASML’s founding story: our roots in the semiconductor industry”. ASML (на језику: енглески). 2024-04-03. Приступљено 2026-06-14.
- ^ Forces, Porters Five (2026-03-19). „What is Brief History of ASML Holding Company?”. Porter's Five Forces (на језику: енглески). Приступљено 2026-06-14.
- ^ „Three decades of PAS 5500”. ASML (на језику: енглески). 2021-05-07. Приступљено 2026-06-14.
- ^ „Our history - Supplying the semiconductor industry”. ASML (на језику: енглески). Приступљено 2026-06-14.
- ^ MatrixBCG (2026-03-31). „What is Competitive Landscape of ASML Holding Company?”. MatrixBCG (на језику: енглески). Приступљено 2026-06-14.
- ^ „What Are the Primary Technical Challenges in EUV Lithography”. Patsnap Eureka. Приступљено 14. јун 2026.
- ^ „ASM Lithography and Silicon Valley Group Receive CFIUS Approval to Proceed With Merger”. ASML (на језику: енглески). 2001-05-03. Приступљено 2026-06-14.
- ^ „Press Release”. www.sec.gov. Приступљено 2026-06-14.
- ^ ASML (2017-01-18). „The 20-year journey to the chips of tomorrow”. Medium (на језику: енглески). Приступљено 2026-06-14.
- ^ Quality, Compounding. „The Most Important Company You’ve Never Heard Of”. www.compoundingquality.net (на језику: енглески). Приступљено 2026-06-14.
- ^ Untaylored”. www.untaylored.com (на језику: енглески). Приступљено 2026-06-14.
- ^ MatrixBCG (2026-03-31). „What is Growth Strategy and Future Prospects of ASML Holding Company?”. MatrixBCG (на језику: енглески). Приступљено 2026-06-14.
- ^ „Our technology - Supplying the semiconductor industry”. ASML (на језику: енглески). Приступљено 2026-06-14.
- ^ „Mechanics & mechatronics at ASML”. ASML (на језику: енглески). Приступљено 2026-06-14.
- ^ „See ASML's DUV lithography systems”. ASML (на језику: енглески). Приступљено 2026-06-14.
- ^ „ASML EUV lithography systems”. ASML (на језику: енглески). Приступљено 2026-06-14.
- ^ „5 things you should know about High NA in EUV”. ASML (на језику: енглески). 2024-01-25. Приступљено 2026-06-14.
- ^ „See ASML’s metrology & inspection systems”. ASML (на језику: енглески). Приступљено 2026-06-14.
- ^ „Sourcing & Supply Chain – Teams at ASML”. ASML (на језику: енглески). Приступљено 2026-06-14.
- ^ IEEETV”. ieeetv.ieee.org (на језику: енглески). 2018-05-30. Приступљено 2026-06-14.
- ^ „ASML wins SEMI Americas Award for EUV lithography”. ASML (на језику: енглески). 2020-07-20. Приступљено 2026-06-14.
- ^ „Innovation ecosystem - Supplying the semiconductor industry”. ASML (на језику: енглески). Приступљено 2026-06-14.
- ^ „TIME100 Most Influential Companies 2025: ASML”. TIME (на језику: енглески). 2025-06-26. Приступљено 2026-06-14.